真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量(篇)
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19905
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  • 作者: 刘金娜 张建军 李国禄 王海斗 靳巧玲
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1085-1091
    摘要: TiN纳米多层薄膜/涂层由于其高的硬度、耐磨性和断裂韧性等优点在精密刀具和模具方面备受青睐.近些年TiN纳米多层薄膜在力学性能方面的研究主要集中于超硬性能、摩擦磨损性以及断裂韧性三个方面.本...
  • 作者: 徐军 王行行 谭伟 陆文琪
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1092-1098
    摘要: 采用RF反应磁控溅射在Si(111)基片上制备了多晶AlN薄膜,研究了工作气压对AlN薄膜晶面择优取向的影响.利用台阶仪、X射线衍射(XRD)、红外吸收光谱(FTiR)对AlN薄膜的沉积速率...
  • 作者: 周旺民 安腾 金杰 马君杰
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1099-1106
    摘要: 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在H13钢和单晶Si(110)表面沉积CrNiTiN四元硬质涂层.通过改变Ni靶电流大小来改变CrNiTiN涂层中Ni的含量.利用扫描电镜、X射线衍射能谱、...
  • 作者: 叶福兴 米鹏博 赵洪舰
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1107-1111
    摘要: 采用JGP-450A2磁控溅射仪制备了一系列不同Si含量(≤20%(原子比))的VSiN涂层.利用结构和性能测试仪器对VSiN涂层的微结构、力学性能和摩擦磨损性能进行了表征.结果表明:VSi...
  • 作者: 代明江 侯惠君 周克崧 朱敏 林松盛 石倩 韦春贝
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1112-1118
    摘要: 采用矩形气体离子源复合磁控溅射技术制备W掺杂的类金刚石薄膜,研究了大气下室温到500℃对薄膜结构稳定性及摩擦学性能的影响.利用扫描电镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪、三维表面轮廓仪分析了薄膜的微...
  • 作者: 丁芃 刘新宇 姚鸿飞 王溪 苏永波 赵华 金智
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1119-1123
    摘要: 采用光敏BCB介质工艺制作了InP基TRL校准件和无源器件,研究了这种毫米波片上集成技术.光敏BCB工艺包括三层金属和一层BCB介质.为了验证工艺可行性,采用电磁仿真器设计了TRL校准件和两...
  • 作者: 尚新文 易红霞 申鑫 肖刘 苏小保
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1124-1130
    摘要: 摘要运用三维电磁场模拟软件Ansoft Maxwell3D对多级降压收集极过渡区磁场进行模拟计算及修正,模拟与实测结果轴向最大磁场误差在6%,同时采用Ansoft Maxwell3D与MTS...
  • 作者: 刘晓明 吴其 杨田
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1131-1135
    摘要: 随着新能源技术的发展,开关电器正向高技术参数、高电压等级、大容量方向发展.真空灭弧室作为真空开关的核心,其绝缘设计分析至关重要.采用蒙特卡罗方法模拟金属蒸气和带电粒子在真空灭弧室内分布,采用...
  • 作者: 姚若河 黄昕乾
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1136-1143
    摘要: 发光二极管(LED)的频率响应特性以及在大电流下的发光特性是其在可见光通信中应用的关键性能指标.对于GaN基的LED,减小InGaN/GaN多量子阱中的内建电场,增大空穴的注入,能有效提高大...
  • 作者: 付跃刚 董亭亭
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1144-1148
    摘要: 在本征硅片表面设计并制作了一种圆柱孔形抗反射微结构.基于严格耦合波分析方法,通过数值计算及模拟仿真确定了微结构最优参数组合,设计反射率小于3%.应用二元曝光、湿法腐蚀和反应离子刻蚀技术制作了...
  • 作者: 刘小萍 刘小镇 刘琳 孟天旭 王振霞 申航航 郭麒
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1149-1155
    摘要: 采用等离子合金化技术,在含一定碳量的AISI 420F马氏体不锈钢表面制备Zr/ZrC合金层.研究了等离子渗Zr合金化温度和时间对Zr/ZrC合金层组织、相结构、渗层厚度以及硬度和摩擦磨损性...
  • 作者: 商圣飞 杨哲 蔡国飙 顾左
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1156-1161
    摘要: 为系统地了解离子推力器羽流的沉积、溅射污染效应,评估其污染程度,进而指导离子推力器的安装布置位置,本文对20 cm离子推力器的羽流污染效应进行了地面试验研究.实验内容主要采用石英微量天平测量...
  • 作者: 敬晓丹 李久会 李义 雷明凯
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1162-1168
    摘要: 等离子体浸没离子注入中的等离子体扩散过程和鞘层演化行为分别由低压非稳态扩散流体模型与鞘层碰撞流体模型来进行描述,数值模拟研究了工作气压与占空比对离子注入剂量和能量的影响.计算结果表明,工作气...
  • 作者: 朱姗姗 李德才 王智森 黄宇婷
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1169-1174
    摘要: 为提升机械密封与磁性液体组合密封的密封性能、减少泄漏量,建立了密封环与密封间隙内液膜的流固耦合模型.采用数值迭代方法进行了流固耦合场的数值分析计算,研究求解组合密封中密封环端面机械变形的解析...
  • 作者: 付越 安家荣 李雪健 陈树军 陶致成 黄毅雄
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1175-1179
    摘要: 对于真空绝热压力容器来说,如何获得并且能够长期维持满足要求的夹层真空度,主要在于吸附剂的吸附性能和微观结构.为此,采用巨正则系综的蒙特卡罗方法,结合13X分子筛在298 K下吸附CO2的实验...
  • 作者: 孙伟 孙立臣 邵容平 闫荣鑫 韩琰
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1180-1186
    摘要: 分析液体向真空环境泄漏的过程,建立其泄漏漏率的数学模型,对提高液体检漏的准确性有着十分重要的意义.以乙二醇水溶液和金属压变形漏孔为研究对象,建立液体向真空环境泄漏的物理模型,研究其泄漏过程的...
  • 作者: 吴斯泰 姚函妤 李玉芳 沈小亮 沈鸿烈
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1187-1192
    摘要: 利用射频磁控溅射两步法分别在玻璃和p型单晶Si衬底上制备ITO/TiW双层薄膜.采用紫外-可见分光光度计、四探针测试仪和X射线衍射仪表征ITO/TiW双层薄膜的光学性能、电学性能和结晶性能,...
  • 作者: 于强 伍继君 刘凯 戴永年 杨斌 马文会 魏奎先
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1193-1199
    摘要: 运用分子相互作用体积模型预测了二元硅基熔体中Zn、Sb、Mg、Mn、Cu和Sn的活度系数.结合模型所得的对势能相互作用B参数和活度等热力学数据,计算了硅与各杂质元素形成的二元系蒸发系数和挥发...
  • 作者: 邹桂娟 金大志 钟伟
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1200-1204
    摘要: 目前工业生产中,陶瓷金属化工艺条件的选择大多是经验性设定,对其如何影响金属化过程缺乏认识.针对于此,本文在前期所建立的陶瓷金属化氢炉的瞬态温度场计算模型基础上,考虑辐射和对流作用,计算陶瓷金...
  • 作者: 张涤新 朱宏伟 杨军 王骥 郑宁 陈江 马寅光
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1205-1209
    摘要: 在ANSYS Workbench软件中建立了星载铯束管内铯炉的有限元模型.采用兰索斯法对模型作了模态分析,获得了铯炉的固有频率及振型.利用模态叠加法对模型作了铯炉的谐响应分析,研究了铯炉及其...
  • 作者: 廖学军 徐友良 梅庆 郭天才
    发表期刊: 2016年10期
    页码:  1210-1214
    摘要: 针对传统光弹性模型制作方法的自动化程度低、周期长、不环保以及一次成功率低等问题,提出了一种基于全真空浇注技术的光弹性模型制作新方法.它利用激光快速成型技术、全真空硅橡胶模型浇注技术、全真空密...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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