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摘要:
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射频磁控反应溅射氧化硅薄膜微结构和电击穿场强研究
射频磁控反应溅射
表面形貌
电击穿场强
磁控反应溅射制备GexC1-x薄膜的特殊性分析
沉积速率
磁控反应溅射
靶中毒
原子百分比
射频反应溅射(Al,Ti)N涂层的微结构与力学性能
(Al,Ti)N涂层
反应溅射
微结构
力学性能
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 射频反应溅射氮化钛的特性和粘着性能
来源期刊 四川真空 学科 工学
关键词 TIN膜 射频反应 溅射
年,卷(期) 1989,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 34-40
页数 7页 分类号 TG710.6
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DOI
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1989(0)
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研究主题发展历程
节点文献
TIN膜
射频反应
溅射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
四川真空
半年刊
成都市第109信箱207分箱
出版文献量(篇)
395
总下载数(次)
1
总被引数(次)
0
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