论文降重
免费查重- 钛学术文献服务平台 \
- 学术期刊 \
- 综合期刊 \
- 其它期刊 \
- 上海微电子技术和应用期刊 \
反应离子刻蚀（RIE）腐蚀双层金属布线中介质孔及有关...
推荐文章
反应离子刻蚀的模型及仿真
反应离子刻蚀(RIE)
二维模型
线算法和元胞算法的混合算法
计算机仿真
氮化硅的反应离子刻蚀研究
反应离子刻蚀
氮化硅
刻蚀气体
优化
反应离子刻蚀工艺中的充电效应
反应离子刻蚀
等离子体不均匀
充电效应
反应离子刻蚀ZnTe的THz辐射和探测研究
THz辐射
反应离子刻蚀
ZnTe
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献 (0)
共引文献 (0)
参考文献 (0)
节点文献
引证文献 (0)
同被引文献 (0)
二级引证文献 (0)
1992(0)
- 参考文献(0)
- 二级参考文献(0)
- 引证文献(0)
- 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
反应离子刻蚀
腐蚀
金属布线
AES
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
上海微电子技术和应用
主办单位：
出版周期：
季刊
ISSN：
1006-9453
CN：
31-1239/TN
开本：
出版地：
上海市胶州路397号 上海半导体器件研究
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
435
总下载数（次）
3
总被引数（次）
0
期刊文献
相关文献
推荐文献
