0.8—1微米分步重复投影光刻机研制

• 作者: 吴耀才 陈旭南
• 来源期刊: LSI制造与测试
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻机 投影 微米 光电技术
• 年，卷（期）: 1996,（6）
• 页码范围: 7-11
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈旭南	中国科学院光电技术研究所	39	212	9.0	13.0
2	吴耀才	中国科学院光电技术研究所	1	0	0.0	0.0