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用于SiGe材料生长的新型UHV/UV/CVD系统
用于SiGe材料生长的新型UHV/UV/CVD系统
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摘要：
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UHV/CVD生长SiGe/Si异质结构材料
SiGe
异质结
UHV/CVD
弛豫SiGe外延层的UHV/CVD生长
外延层
UHV/CVD
SiGe
UHV/CVD外延生长SiGe/Si表面反应动力学
SiGe/Si
UHV/CVD
生长
动力学
D-UHV/VCD系统中SiGe薄膜的低温生长
SiGe超高真空化学气相淀积
低温生长
x射线双晶衍射
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真空电子技术
主办单位：
北京真空电子技术研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1002-8935
CN：
11-2485/TN
开本：
大16开
出版地：
北京749信箱7分箱
邮发代号：
创刊时间：
1959
语种：
chi
出版文献量（篇）
2372
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