经Al2O3与 SiOx钝化的多孔硅及其光致发光特性

• 作者: 刘小兵 史向华 廖良生 熊祖洪 袁帅
• 来源期刊: 半导体学报
• 关键词: 多孔硅 光致发光 钝化 Al2O3 SiOx
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 38-43
• 页数: 6页
• 字数: 3305字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2000.01.008

摘要

在一定偏压下用AlCl3+C2H5OH+H2O混合液对多孔硅进行了后处理。经过处理的多孔硅与未经处理的多孔硅相比，其发光强且稳定。通过对样品进行红外吸收谱的测试和分析，指出在后处理样品表面形成的Al2O3与SiOx结构是多孔硅发光增强和稳定性得到提高的原因。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史向华	长沙电力学院物理系	25	84	5.0	8.0
2	刘小兵	长沙电力学院物理系	28	102	5.0	8.0
3	熊祖洪	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	5	63	4.0	5.0
4	袁帅	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	6	39	3.0	6.0
5	廖良生	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	4	25	1.0	4.0