溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜光学常数的影响

• 作者: 侯立松 干福熹 李晶 李进延 谢泉 阮昊
• 来源期刊: 材料研究学报
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射功率 Ge2Sb2Te5薄膜 光学常数
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 501-504
• 页数: 4页
• 分类号: TB383|O482
• 字数: 1356字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-3093.2000.05.011

摘要

研究了溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数与波长关系的影响,结果表明,在波长小于500nm的情况下,随溅射功率的增加非晶态薄膜的折射率n先增加然后减小,消光系数k则逐渐减小;在波长大于500nm的情况下,随溅射功率的增加折射率n逐渐减少,消光系数k先减小后增加.对于晶态薄膜样品,在整个波长范围折射率n随溅射功率的增加先减小后增加,消光系数k则逐渐减少.薄膜样品的光学常数,在长波长范围随波长变化较大,在短波长范围变化较小.讨论了溅射功率对Ge2Sb2Te5薄膜的光学常数影响的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	阮昊	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	336	7.0	17.0
3	李晶	中国科学院上海光学精密机械研究所	127	2691	28.0	50.0
4	侯立松	中国科学院上海光学精密机械研究所	43	407	13.0	18.0
5	李进延	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	39	4.0	5.0
6	谢泉	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	60	4.0	6.0