不同m(Zr)/m(Ti)及靶形式在不同衬底上溅射PZT薄膜的研究

• 作者: PONGTGHEP Arkornsakul 叶勤 周慎平
• 来源期刊: 暨南大学学报(自然科学与医学版)
• 学科: 工学
• 关键词: PZT薄膜 Ag、Au、Pt衬底 智能材料 热处理
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 页码范围: 59-63
• 页数: 5页
• 分类号: TB3|TB34
• 字数: 2573字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9965.2001.05.011

摘要

分别用m(Zr)/m(Ti)配比为30/70、53/47、70/30的源材料及陶瓷块状靶和预烧粉末靶的形式,在Ag、Au、Pt衬底上溅射制取PZT薄膜.比较分析了薄膜的钙钛矿结构形成情况,所需的热处理温度及铁电特性.研究表明:靶材的配比靠近30/70时较容易获得钙钛矿结构;用预烧粉末靶或用Ag衬底可降低热处理温度;用Au、Pt衬底能得到较好的电学特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶勤	暨南大学物理系	37	351	11.0	16.0
2	周慎平	暨南大学物理系	1	0	0.0	0.0