溅射功率对多层膜质量的影响

• 作者: 冯仕猛 窦晓鸣 范正修 赵海鹰 邵建达
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 溅射功率 薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（11）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 1300-1302
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 1910字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2002.11.005

摘要

用磁控溅射技术制备薄膜,用X射线衍射研究在基片和靶间距离固定的情况下不同的溅射功率对薄膜结构的影响.结果表明:过低的溅射功率下淀积的薄膜有畸变的X射线衍射特征峰,特征峰强度小,半峰全宽大.而比较高溅射功率得到的薄膜有比较尖锐的X射线衍射特征峰,强度高和半峰全宽非常窄.研究表明,X射线衍射特征峰强度小和半峰全宽大的薄膜结构疏松,而强度高和半峰全宽非常窄的薄膜结构致密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	窦晓鸣	上海交通大学物理系	26	352	10.0	18.0
4	冯仕猛	上海交通大学物理系	39	143	7.0	9.0
5	赵海鹰	上海交通大学物理系	16	185	6.0	13.0