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Au薄膜溅射功率对ZnO/Au复合薄膜质量的影响
Au薄膜溅射功率对ZnO/Au复合薄膜质量的影响
作者:
姚明秋
席仕伟
徐韩
王旭光
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
溅射
溅射功率
Au薄膜
ZnO电阻
摘要:
在ZnO薄膜上采用不同溅射功率制作了Au薄膜,研究不同溅射功率对Au膜成膜速率、结晶质量和结合力的影响,表明在本实验中100 W功率下Au膜的成膜质量比较好.同时对 ZnO 薄膜电阻的影响进行了研究,结果表明溅射功率越高,ZnO 导通的可能性越大,通过实验,溅射工艺在100 W下制备的Au薄膜对ZnO电阻影响最小.
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文献信息
篇名
Au薄膜溅射功率对ZnO/Au复合薄膜质量的影响
来源期刊
太赫兹科学与电子信息学报
学科
工学
关键词
溅射
溅射功率
Au薄膜
ZnO电阻
年,卷(期)
2015,(6)
所属期刊栏目
微电子、微系统与物理电子学
研究方向
页码范围
980-982
页数
3页
分类号
TH703|TN305.2
字数
1653字
语种
中文
DOI
10.11805/TKYDA201506.0980
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
席仕伟
中国工程物理研究院电子工程研究所
12
59
4.0
7.0
2
王旭光
中国工程物理研究院电子工程研究所
6
27
3.0
5.0
3
姚明秋
中国工程物理研究院电子工程研究所
7
30
3.0
5.0
4
徐韩
中国工程物理研究院电子工程研究所
5
22
2.0
4.0
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
溅射
溅射功率
Au薄膜
ZnO电阻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
太赫兹科学与电子信息学报
主办单位:
中国工程物理研究院电子工程研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
2095-4980
CN:
51-1746/TN
开本:
大16开
出版地:
四川绵阳919信箱532分箱
邮发代号:
62-241
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
3051
总下载数(次)
7
总被引数(次)
11167
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