光栅干法刻蚀与湿法刻蚀的研究

• 作者: 沈坤 罗飚 谈春雷 阳洪涛 陈永诗
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 分布式布拉格反馈 干法腐蚀 反应离子刻蚀 全息光刻
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜技术
• 页码范围: 54-56
• 页数: 3页
• 分类号: TH741.6
• 字数: 1797字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2003.01.014

摘要

在光栅的制作中有两种方法:其中一个是湿法,另外一个是干法.本文分别就湿法和干法的实验结果,进行比较.用干法刻蚀方法做出了比较好的一级光栅,证明了干法刻蚀优于湿法刻蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈永诗		12	62	5.0	7.0
2	沈坤		4	39	2.0	4.0
3	罗飚		1	21	1.0	1.0
4	阳洪涛		1	21	1.0	1.0
5	谈春雷		1	21	1.0	1.0