负性光刻胶刻蚀工艺研究

• 作者: 杜春雷 董小春
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 负性光刻胶 面形控制 明胶
• 年，卷（期）: 2003,（12）
• 所属期刊栏目: 波导与集成光学
• 页码范围: 1422-1425
• 页数: 4页
• 分类号: O434.14
• 字数: 2518字
• 语种: 中文

摘要

对负性光刻胶的蚀刻特性进行了详尽的数学阐述,推导出了光致抗蚀剂层的刻蚀速度同曝光量以及光刻材料吸收系数之间的微分关系.以该微分方程为理论依据,通过对光刻显影过程进行模拟,得出了蚀刻最佳浮雕面形所需的光刻条件,并以"重铬酸盐-明胶"为光刻材料进行实验,获得了良好的实验结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜春雷	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	72	596	14.0	18.0
2	董小春	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	20	154	8.0	11.0