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摘要:
该文根据超大规模集成电路光刻技术的不断发展对与之配套的光刻胶的不同要求,阐述了国内外光刻胶的现状、应用和发展状况等.
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母版材料
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 光刻技术的发展与光刻胶的应用
来源期刊 集成电路应用 学科 工学
关键词 光刻技术 光刻胶 应用 发展
年,卷(期) 2003,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 69-75
页数 7页 分类号 TN405
字数 语种 中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
光刻技术
光刻胶
应用
发展
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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