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摘要:
对100nm线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴加离轴对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中,该对准算法模型有一定可行性,能很好地满足100nm线宽对准精度的要求.
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文献信息
篇名 100nm线宽的掩模硅片自动对准算法
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 掩模硅片 对准 对准模型 坐标阵列 最小二乘法
年,卷(期) 2004,(9) 所属期刊栏目 光学光刻技术
研究方向 页码范围 63-67
页数 5页 分类号 TN305.7
字数 3563字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.09.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曹益平 四川大学光电科学技术系 136 874 15.0 24.0
2 邢廷文 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 67 501 11.0 17.0
3 周金梅 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 9 75 4.0 8.0
4 梁友生 四川大学光电科学技术系 6 63 4.0 6.0
传播情况
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2005(1)
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研究主题发展历程
节点文献
掩模硅片
对准
对准模型
坐标阵列
最小二乘法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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10002
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