化学气相沉积金刚石薄膜的晶体缺陷和杂质

• 作者: 罗承萍 邱万奇 黄元盛
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石 晶体缺陷 杂质
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 专题综述
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: O483|O77
• 字数: 2829字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2004.01.002

摘要

化学气相沉积(CVD)金刚石的主要晶体缺陷为孪晶、层错和位错.杂质主要有非晶碳、石墨和氢等.文中对上述晶体缺陷及杂质的研究进行了回顾:这些缺陷和杂质可以存在于晶内或者晶界;缺陷密度、杂质含量与化学气相沉积的沉积条件有很大关系;一般缺陷密度和杂质含量随甲烷浓度的增加而增加;杂质的存在也直接影响金刚石晶体缺陷的形成;并对CVD金刚石的五次孪晶的研究作了总结.这对以后CVD金刚石的晶体学研究具有较大的指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱万奇	华南理工大学机械工程学院	67	339	9.0	15.0
2	罗承萍	华南理工大学机械工程学院	80	1286	19.0	33.0
3	黄元盛	韶关学院机电工程系	12	44	3.0	6.0