热退火对电子束蒸镀方法制备的ZnO:Al薄膜光电性质的影响

• 作者: 刘益春 徐海阳 钟殿强 马剑刚 骆英民 齐秀英
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO:Al薄膜 电子束蒸镀 退火 Van der Pauw法 光致发光谱
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 页码范围: 776-780
• 页数: 5页
• 分类号: TN304
• 字数: 3168字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.018

摘要

采用电子束蒸镀方法在Si(100)衬底上沉积了ZnO:Al(ZAO)薄膜.在氧气气氛下对ZnO:Al薄膜进行了退火处理,退火温度的范围为400～800℃.X射线衍射(XRD)图样表明所制备的ZnO:Al薄膜具有六方结构,为c轴(002)择优取向的多晶薄膜.用Van der Pauw法测量了ZAO薄膜的电学特性,结果显示其电导率在500℃达到最大值.测量了ZAO薄膜的室温微区光致发光和变温发光光谱,观测到了ZnO自由激子、束缚在中性施主中心(D0)上的束缚激子以及束缚在离化施主中心(D+0)上的束缚激子发射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟殿强	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	6	35	3.0	5.0
2	齐秀英	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	6	35	3.0	5.0
3	刘益春	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	50	292	10.0	15.0
4	徐海阳	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	10	34	3.0	5.0
5	骆英民	东北师范大学先进光电子功能材料研究中心	1	14	1.0	1.0
6	马剑刚	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室	1	14	1.0	1.0