应用原子层外延技术分析Turbo-Disk MOCVD 外延生长模式

• 作者: 刘颂豪 孙慧卿 廖常俊 李述体 王浩 范广涵 郑树文 郭志友 陈炼辉 陈贵楚
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 化学
• 关键词: 原子层外延 MOCVD 亚原子外延
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 128-133
• 页数: 6页
• 分类号: O649.4
• 字数: 2622字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2004.02.012

摘要

应用原子层外延与分子层外延的理论研究了Turbo-Disk MOCVD外延生长过程,发现生长主要发生在衬底表面的台阶处,当通过控制生长参数达到优质外延时,实际上是一种亚原子外延过程,优化调整反应参数实现了优质外延.