基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用Cu,In,Se三元扇形复合靶,在玻璃基片上用射频磁控反应溅射技术制备CuInSe2(CIS)纳米颗粒膜.CIS颗粒的大小可通过改变溅射功率、基片温度和膜厚来调节.测量并讨论了所制备的CIS纳米颗粒膜的内部晶相结构、电阻率、导电类型以及光吸收等性质.
推荐文章
磁控溅射制备纳米厚度连续金膜
磁控溅射
表面粗糙度
纳米Au膜
磁控溅射制备金属铀膜
金属铀膜
磁控溅射
表面粗糙度
磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备
磁控溅射
氦含量
氦钛膜
平均晶粒尺寸
碳化硅颗粒表面磁控溅射镀铜膜的研究
磁控溅射
金属膜
碳化硅
X射线衍射仪
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 CuInSe2纳米颗粒膜的磁控溅射制备和特性分析
来源期刊 真空电子技术 学科 物理学
关键词 铜铟硒 射频溅射 纳米颗粒膜
年,卷(期) 2004,(3) 所属期刊栏目 工艺与应用
研究方向 页码范围 40-42
页数 3页 分类号 O484
字数 1586字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2004.03.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孙海燕 烟台大学环境与材料工程学院 8 130 5.0 8.0
2 苗晔 烟台大学光电信息科学技术学院 5 19 2.0 4.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (7)
同被引文献  (2)
二级引证文献  (0)
2004(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2007(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2008(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2009(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2012(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2014(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2015(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
铜铟硒
射频溅射
纳米颗粒膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
论文1v1指导