193nm光刻技术延伸方法

• 作者: 翁寿松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 193 nm光刻机 浸入式光刻机 光刻分辨力 相位移
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 专题报道
• 页码范围: 14-16
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2961字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.11.005

摘要

介绍了提高193 nm光刻分辨力的方法,如浸入式光刻技术、相位移技术等.并介绍了193 nm浸入式光刻机的优点和前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁寿松		95	534	13.0	18.0