非理想参数下193nm光学薄膜的设计

• 作者: 易葵 范正修 袁景梅 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜技术 193nm光学薄膜 光刻机 消光系数 水吸收 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 477-481
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3282字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.04.022

摘要

193nm光学薄膜是100nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜.分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响.结果表明,要镀制出反射率大于98.5%的高反膜,必须将高折射率材料的消光系数k控制在0.0034以内,同时膜层表面的粗糙度σ控制在1nm以内.膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响,要减少膜层水吸收的影响,就必须提高薄膜的致密度,采用离子成膜技术,或者改变膜层的使用环境.在考虑相关因素的前提下,设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜,并分析了其实际性能与设计结果存在差别的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	203	2312	23.0	32.0
4	齐红基	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	40	299	11.0	16.0
5	袁景梅	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	7	129	6.0	7.0