磁控溅射制备ZnO薄膜的受激发射特性的研究

• 作者: 张希清 林鹏 熊德平 王丽 王晶 腾小瑛 黄世华
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 受激发射 激子 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 页码范围: 775-778
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3228字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0593.2004.07.002

摘要

用射频磁控反应溅射法在二氧化硅衬底上制备ZnO薄膜.得到了在不同温度下ZnO薄膜的吸收与光致发光.观测到了纵光学波(LO)声子吸收峰与自由激子吸收峰;室温(300K)下,PL谱中仅有自由激子发光峰.这些结果证实了ZnO薄膜具有较高的质量.探讨了变温ZnO薄膜的发光特性.研究了ZnO薄膜的受激发射特性.