电子束蒸发沉积工艺条件对ZrO2薄膜性能的影响

• 作者: 占美琼 张东平 范正修 贺洪波 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 ZrO2薄膜 工作气压 沉积速率 石英晶体振荡法
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1356-1360
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2054字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.11.017

摘要

在电子束蒸发沉积制备ZrO2薄膜的过程中,采用石英晶体振荡法监控膜厚和沉积速率.用NKDT000分光光度计测量了ZrO2薄膜的折射率和膜厚,用原子力显微镜分别观测了不同工作气压和沉积速率下薄膜的表面形貌、均方根粗糙度.结果表明,随着工作气压的升高,膜层的结构变疏松,薄膜的折射率和均方根粗糙度都随之减小.随着沉积速率的增大,膜层的结构变致密,薄膜的折射率和均方根粗糙度都随之增大.并且从工具因子(TF)的角度得到了证实.实际镀膜过程中应该根据激光薄膜的应用需要选用合适的工艺条件,在允许的均方根粗糙度范围内提高膜层的结构致密性和折射率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0
4	张东平	中国科学院上海光学精密机械研究所	8	84	5.0	8.0
5	占美琼	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	85	5.0	6.0