CF4/CHF3反应刻蚀石英和BK7玻璃

• 作者: 汪力 王旭迪 胡焕林 黄长杰
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 石英 BK7玻璃 反应刻蚀 刻蚀速率 图形转移 表面质量
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 真空技术应用
• 页码范围: 49-51
• 页数: 3页
• 分类号: O48
• 字数: 2556字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2005.04.015

摘要

用CF4/CHF3作为工作气体对石英和BK7玻璃进行了研究,分析了气体组分、气体流量和射频偏压等几种因素对刻蚀速率的影响,结果表明刻蚀速率与射频偏压的均方根成正比.在1 CF4∶1CHF3的等离子体中由于与光刻胶良好的刻蚀选择比,在石英基片上获得了侧壁陡直的槽形.用光学表面轮廓仪观测的结果表明偏压的增加和过高的气体流量易使基片表面质量下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王旭迪	合肥工业大学机械与汽车工程学院	40	192	9.0	12.0
2	胡焕林	合肥工业大学机械与汽车工程学院	14	79	6.0	8.0
3	汪力	合肥工业大学机械与汽车工程学院	3	37	2.0	3.0
4	黄长杰		1	1	1.0	1.0