溅射法制作CrSi薄膜电阻工艺技术

• 作者: 唐俊峰 姜伟
• 来源期刊: 混合微电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射工艺 CrSi电阻 TCR AR／R 薄膜电阻 工艺技术 制作 溅射法 薄膜混合集成电路 最佳工艺条件
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 37-43
• 页数: 7页
• 分类号: TN451
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜伟		2	0	0.0	0.0
2	唐俊峰		1	0	0.0	0.0