脉冲偏压对电弧离子镀TiNbN硬质薄膜相结构的影响

• 作者: 林国强 肖微 董闯 赵彦辉 闻立时
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 脉冲偏压 硬质薄膜 氮化钛铌 相结构
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 319-322
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2906字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.05.001

摘要

用电弧离子镀设备,在其他工艺参数相同的条件下,通过仅改变脉冲偏压幅值的方法分别沉积TiNbN硬质薄膜,考察脉冲偏压对薄膜相结构的影响.结果表明,TiNbN硬质薄膜的相结构随脉冲偏压幅值的变化而变化:当幅值为-300 V时,得到TiN类型的(TiNb)N的固溶体;-600 V时,得到TiN和δ-NbN的混合相结构;而在-900 V时,则得到TiN和δ-NbN以及β-Nb2N三相混合结构.分析表明,脉冲偏压能够改变薄膜相结构,这与不同偏压提供的离子沉积能量,能够分别满足各个化合物生成自由能的热力学条件有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	198	2023	23.0	34.0
2	林国强	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	59	562	13.0	21.0
3	闻立时	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	10	154	8.0	10.0
4	肖微	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	1	7	1.0	1.0
5	赵彦辉	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	4	53	4.0	4.0