DMCPS电子回旋共振等离子体沉积的SiCOH低介电常数薄膜结构及物性研究

• 作者: 俞笑竹 叶超 宁兆元 王婷婷
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 低介电常数薄膜 电子回旋共振等离子体
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 97-100
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2465字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.z1.025

摘要

本文采用电子回旋共振(ECR)等离子体技术和十甲基环五硅氧烷(DMCPS)源开展了SiCOH薄膜的研究工作,获得了介电常数为2.88的SiCOH低介电常数薄膜.薄膜经400℃热处理后,膜厚减小,最大相对变化率小于15%,呈现较好的热稳定性.薄膜在1MV/cm场强下的漏电流为8.9×10-6A/cm2,且场强达到2.5 MV/cm时,未发生击穿现象,具有较优越的绝缘性能.因此,采用ECR-CVD技术和DMCPS源可以制备热稳定性优良的、绝缘性能优越的低介电常数SiCOH薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理科学与技术学院	70	528	12.0	18.0
2	叶超	苏州大学物理科学与技术学院	33	244	10.0	14.0
3	王婷婷	苏州大学物理科学与技术学院	26	109	7.0	9.0
4	俞笑竹	苏州大学物理科学与技术学院	4	20	3.0	4.0