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摘要:
对微电子工艺中引入杂质的危害进行了阐述,找出现有硅溶胶距离实际应用的不足,发掘其纯化工艺,为微电子用硅溶胶的广泛应用提供了前提条件.
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文献信息
篇名 微电子用硅溶胶的纯化
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 硅溶胶 纯化 杂质
年,卷(期) 2005,(9) 所属期刊栏目 技术专栏(环保、洁净与清洗技术)
研究方向 页码范围 17-19
页数 3页 分类号 TN405
字数 1965字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2005.09.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘玉岭 河北工业大学微电子研究所 263 1540 17.0 22.0
2 王娟 河北工业大学微电子研究所 40 220 8.0 12.0
3 张建新 河北工业大学微电子研究所 45 348 10.0 15.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
硅溶胶
纯化
杂质
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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