半导体技术期刊
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半导体技术

Semiconductor Technology

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影响因子 0.3579
《半导体技术》是由信息产业部主管,中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办,业内权威的国家一级刊物之一。1976年创刊,它以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场”,是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。 《半导体技术》是中文核心... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)  中国科技论文统计用刊  中文核心期刊 
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄179信箱46分箱
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  • 作者: 冯平 尹家宇 宋长坤 余仕湖 李伯阳 陈铖颖 左石凯
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  1-8,18
    摘要: 在非易失性存储器领域,非易失性静态随机存储器(NVSRAM)可以克服现有非易失性存储器的缺点与限制,并完全替代静态随机存储器(SRAM).首先,对几种新型非易失性存储器进行了简单阐述;其次介...
  • 作者: 孟鹤立 邓二平 常桂钦 黄永章
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  9-18
    摘要: 栅极一直是SiC MOSFET可靠性研究的重点,栅极老化过程中电参数之间的耦合关系对栅极可靠性研究有至关重要的作用.为此,搭建了能够同时监测阈值电压和栅极漏电流的高温栅偏(HTGB)试验平台...
  • 作者: 冯俊波 李智慧 梁宇鑫 杨忠华 赵恒 崔乃迪
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  19-24
    摘要: 氮化硅平台阵列波导光栅(AWG)波分(解)复用器具有损耗低、集成度高、温度敏感性低等优势.基于联合微电子中心有限责任公司(CUMEC)的氮化硅集成光子工艺平台,从波导传输损耗、阵列波导与平板...
  • 作者: 袁晓冬 葛雪峰 史明明 任政燚 王志强 王宁会
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  25-32
    摘要: 结温预测对于功率器件的可靠性分析具有重要意义,基于此,提出了一种基于电热耦合模型的功率器件结温预测方法.首先通过Twin Builder软件建立了绝缘栅双极晶体管(IGBT)的行为模型,通过...
  • 作者: 赵恒 何来胜 杨伟 葛邦同 何金城
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  33-36
    摘要: 硅基光电子芯片的端面耦合器具有大带宽、低损耗、偏振不敏感等优点,使人们希望在端面封装方面获得突破.提出了一种用于硅基光电子芯片端面封装的深硅刻蚀工艺,利用等离子体刻蚀形成的斜面与光纤阵列的封...
  • 作者: 冯子璇 崔浩祥 杨程辉 孙晓琴 牛新环
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  37-41,76
    摘要: 钴(Co)的化学机械抛光(CMP)要求有较高的去除速率(大于100 nm/min)和洁净平整的表面.采用新型弱碱性抛光液,研究不同成分(如过氧化氢(H2O2)、1,2,4-三氮唑(TAZ)、...
  • 作者: 林源为 赵晋荣
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  42-45,64
    摘要: 由于存在化学刻蚀的各向同性作用,不可避免地会在等离子体深硅刻蚀工艺中出现底部圆角,而过大的底部圆角给许多工艺应用带来不利影响.为了减小在等离子体深硅刻蚀中的底部圆角,对埋入式扇出型封装中的硅...
  • 作者: 汤莉娟 周广伟 施海铭
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  46-49
    摘要: 在集成电路制造中,湿法清洗工艺中铝金属腐蚀是一种致命缺陷,它的出现将引发产品的可靠性问题.通过控制清洗过程中的工艺参数,增加起侧壁保护作用的铝金属氧化层的厚度,从而抑制铝金属腐蚀缺陷的产生....
  • 作者: 尹湘坤 王凤娟 刘景亭
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  50-54
    摘要: 基于硅通孔(TSV)技术,可以实现微米级三维无源电感的片上集成,可应用于微波/射频电路及系统的微型化、一体化三维集成.考虑到三维集成电路及系统中复杂、高密度的电磁环境,在TSV电感的设计和使...
  • 作者: 袁丹丹 张志浩 张艺 殷锐昊 章国豪
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  55-59
    摘要: 基于0.15 μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺,实现了一款用于5G毫米波通信的低插损高隔离单刀双掷(SPDT)开关芯片.为了降低插损,每个开关支路通过四分之一波长阻抗变...
  • 作者: 田爱华 邢东 赵向阳 蒋长宏 刘波 冯志红
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  60-64
    摘要: 针对太赫兹GaAs肖特基二极管倍频器芯片散热能力差导致输出功率低的问题,开展了GaAs/AlN异构集成太赫兹倍频器芯片研究.通过稳态热仿真发现,将肖特基二极管芯片衬底由GaAs替换为热导率更...
  • 作者: 王宇龙 王明
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  65-69
    摘要: 基于180 nm BCD工艺平台设计开发了32 Kibit的多次可编程(MTP)非易失性存储器(NVM).详细描述了存储单元的结构设计特点、操作机理及影响非易失性的关键因素.测试并量化了其在...
  • 作者: 彭程 李学宝 杨艺烜 姚兆民 王克胜 赵志斌 代安琪 唐新灵 崔翔
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  70-76
    摘要: 绝缘栅双极型晶体管(IGBT)芯片的静态输出曲线是考核其能量损耗及指导多芯片并联设计的重要指标之一.现有测量IGBT静态输出曲线的方法多采用商用化的功率器件分析仪,然而商业化功率器件分析仪存...
  • 作者:
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年1期
    页码:  77
    摘要:
  • 作者: 罗付 牛新环 张银婵 朱烨博 侯子阳 屈明慧 闫晗
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  81-86,133
    摘要: 氮化镓(GaN)因具有耐酸碱、硬度大等特点使其难以进行精密加工.因此,高效实现GaN的化学机械抛光(CMP)成为了一个技术难题.CMP过程中,抛光液的组分及其性质对抛光效果起决定性的作用.对...
  • 作者: 景永凯 范超 孟宪成 刘哲 王蒙军 郑宏兴 杨瑞霞
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  87-93,104
    摘要: 采用化学气相输运(CVT)法和微机械剥离技术制备了SnS2薄膜,使用Au电极作为源、漏电极,n型重掺杂Si作为栅极,制备了基于SnS2薄膜的背栅型场效应晶体管(FET),并研究了其电学特性和...
  • 作者: 熊承诚 孙亚宾 石艳玲
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  94-99,139
    摘要: 设计并研究了一种带有轻掺杂漏(LDD)和斜向扩展源(OES)的双栅隧穿场效应晶体管(DG-TFET),并利用Sentaurus TCAD仿真工具对栅长及扩展源长度等关键参数进行了仿真分析.对...
  • 作者: 何锦龙 穆继亮 耿文平
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  100-104
    摘要: 研究了Z切700 nm厚的单晶铌酸锂(LiNbO3)薄膜电畴的调控方法.利用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)对单晶LiNbO3薄膜的晶向和形貌进行了表征,并通过外加电场对单晶L...
  • 作者: 陈文静 黄勇 王威 刘文峰 乐政 孙孪鸿
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  105-110,116
    摘要: Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜因其元素储量高、较佳的光学带隙、优异的电学性能等优势而得到广泛关注.以硝酸铋为铋源、乙酸钠为钠源,采用溶胶-凝胶法制备Na-Bi掺杂的CZTS薄膜.研究Na...
  • 作者: 续晨 周建伟 王辰伟 田源 李越 崔志慧 李森
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  111-116
    摘要: 采用柠檬酸作为pH调节剂和分散剂,针对CeO2磨料水溶液的分散性差以及浅沟槽隔离(STI)化学机械抛光(CMP)过程中正硅酸乙酯(TEOS)/氮化硅(Si3N4)的去除速率选择性难以控制的问...
  • 作者: 吴嘉兴 刘英坤 谭永亮 刘佳佳
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  117-121,151
    摘要: 降低芯片背面金属-半导体欧姆接触电阻是有效提高器件性能的方式之一.采用650 V SiC肖特基势垒二极管(SBD)工艺,使用波长355 nm不同能量的脉冲激光进行退火实验,利用X射线衍射(X...
  • 作者: 袁肇耿 刘永超 张未涛 高国智 赵叶军
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  122-125,151
    摘要: 重点探究了直径200 mm超厚层硅片滑移线的影响因素以及控制方法.使用平板硅外延炉加工超厚层外延片,并使用颗粒测试仪SP1和光学干涉显微镜表征滑移线.从热应力是滑移线的主要成因出发,通过对衬...
  • 作者: 胡毅 李振国 侯佳力 国千崧 邓新伟 胡伟波
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  126-133
    摘要: 为缩短高速模数转换器(ADC)中高位(MSB)电容建立时间以及减小功耗,提出了一种基于分段式电容阵列的改进型逐次逼近型(SAR) ADC结构,通过翻转小电容阵列代替翻转大电容阵列以产生高位数...
  • 作者: 冯俊波 杨明祥 刘大鹏 廖海军 夏鹏辉
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  134-139
    摘要: 基于CMOS兼容的硅基光子集成工艺,设计并实现了一种具有高边带抑制比的硅基单片集成单边带调制器.单边带调制器采用正交混合耦合器实现上下两臂等幅度、90°相位差的射频信号加载,基于硅基双驱动马...
  • 作者: 冯宇翔 左安超 李斌
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  140-144
    摘要: 设计了一款基于高压BCD工艺的内集成MOS自举电路,将其应用于高压集成电路(HVIC).对传统的内集成MOS自举电路进行改进,该改进版内置MOS自举电路集成升压控制模块,实现在HVIC通电后...
  • 作者: 王媛 汪西虎
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  145-151
    摘要: 为了延长便携式、可穿戴医疗设备的待机时间,设计了一种具有超低静态电流的低压差(LDO)线性稳压器.采用误差放大器与基准电路相结合的结构,在降低静态电流的同时减小芯片面积;其次,利用负载检测模...
  • 作者: 李逵 吴婷 赵帅 郭雁蓉 杨宇军 代岩伟 秦飞
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年2期
    页码:  152-158
    摘要: 对一种典型2.5D封装结构在回流焊工艺过程的热应力进行仿真.通过对比分析传统热力学仿真方法与基于生死单元技术的热力学仿真方法,研究了计算方法对热应力计算结果的影响.在相同参考温度下,由不同计...
  • 作者: 赵正平
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年3期
    页码:  161-178
    摘要: 进入21世纪后,宽禁带半导体SiC电力电子学发展迅速,SiC二极管和SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)先后进入商品化,在电动汽车等绿色能源的应用发展的带动下,SiC电力电...
  • 作者:
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年3期
    页码:  178
    摘要:
  • 作者: 陈延博 杨兵 康玄武 郑英奎 张静 吴昊 刘新宇
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2022年3期
    页码:  179-183
    摘要: 在Si基GaN上制备了与CMOS工艺兼容的高性能准垂直结构肖特基势垒二极管(SBD).探索了在GaN体材料上基于Ti/Al/Ti/TiN结构的无金欧姆接触工艺,在650℃的N2氛围退火60 ...

半导体技术基本信息

刊名 半导体技术 主编 赵小宁
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共和国工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1003-353X CN 13-1109/TN
邮编 050002 电子邮箱 bdtj1339@163.com
电话 0311-87091339 网址
地址 石家庄179信箱46分箱

半导体技术评价信息

期刊荣誉
1. 中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)
2. 中国科技论文统计用刊
3. 中文核心期刊

半导体技术统计分析

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