高温快速退火对重掺锑硅单晶中流动图形缺陷的影响

• 作者: 刘彩池 周旗钢 孙世龙 孙卫忠 张建峰 张建强 王敬 赵丽伟 郝秋艳
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 重掺锑硅单晶 快速退火(RTA) 流动图形缺陷(FPDs) 空洞缺陷
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 4863-4866
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2354字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.10.069

摘要

对大直径重掺锑硅单晶中流动图形缺陷(FPDs)进行了研究.利用高温快速退火工艺(RTA),将重掺锑硅片在N2,Ar,H2三种不同气氛下进行热处理,对退火前后FPDs的密度变化进行了研究,分析了重掺锑硅单晶中FPDs在不同高温RTA过程中的热稳定性.并从重掺杂原子锑与间隙氧之间的关系,分析了重掺锑硅片中FPDs在高温快速退火工艺下的消除机制,认为重掺锑硅单晶中大量的锑原子,影响了硅片中间隙氧的浓度分布,进而影响了原生微缺陷的形成及热行为.