用IBAD方法合成ZrN/W纳米多层膜

• 作者: 刘谦祥 张晶晶 李德军 杨瑾 王明霞
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: IBAD ZrN/W 多层膜 超晶格
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 133-136,154
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444|TG174.4
• 字数: 2739字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.02.014

摘要

本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备具有纳米尺寸的ZrN/W多层膜,通过改变双靶的沉积时间,合成一系列的具有不同调制周期(3 nm～10 nm)的纳米多层膜.利用AES,XRD和纳米力学测试系统,表面形貌仪表征了薄膜的成分、结构和机械性能,分析了不同调制周期对薄膜结构与机械性能的影响.结果表明:多层膜的机械性能普遍优于两种个体材料的混合相;在调制周期为8.6 nm时,显示出强的ZrN(111),W(110)织构和较弱的ZrN(220)峰,与其他条件下制备的样品比较,它具有较高的硬度(～26 GPa),较高的弹性模量(～310 GPa)和较强的膜基结合力(～80 mN).低角度XRD分析证明了薄膜的多层结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王明霞	天津师范大学物理与电子信息学院	15	45	5.0	5.0
2	张晶晶	天津师范大学物理与电子信息学院	6	14	3.0	3.0
3	杨瑾	天津师范大学物理与电子信息学院	14	36	4.0	4.0
4	刘谦祥	天津师范大学物理与电子信息学院	9	57	4.0	7.0
5	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0