金属连线光刻技术

• 作者: 刘旸 唐冬
• 来源期刊: 微处理机
• 学科: 工学
• 关键词: 线宽 薄胶 减反层
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 大规模集成电路设计、制造与应用
• 页码范围: 14-15,19
• 页数: 3页
• 分类号: TN4
• 字数: 2246字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2279.2007.02.005

摘要

介绍了一种细线条金属连线光刻技术.在溅射铝后,生长一薄层氮化硅薄膜作为减反层,利用氮化硅薄膜的光刻条件,涂覆薄胶可以保证刻出细线条,腐蚀薄层氮化硅保证线宽,同时在腐蚀铝过程中用氮化硅作掩蔽解决了薄胶问题.并在亚微米的抗辐射加固电路中成功应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐冬	中国电子科技集团公司第四十七研究所	6	11	2.0	3.0
2	刘旸	中国电子科技集团公司第四十七研究所	7	3	1.0	1.0