磁控溅射制备FeSi膜的性质

• 作者: 余平 张勇 张晋敏 肖清泉
• 来源期刊: 长春师范学院学报：自然科学版
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 薄膜 椭偏仪 反应溅射
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: O484

摘要

本文利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si（100）和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们的适用范围。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张勇	贵州大学计算机科学与工程学院电子科学系	100	332	8.0	15.0
2	张晋敏	贵州大学计算机科学与工程学院电子科学系	47	261	7.0	15.0
3	肖清泉	贵州大学计算机科学与工程学院电子科学系	40	199	7.0	13.0
4	余平	贵州大学计算机科学与工程学院电子科学系	10	145	3.0	10.0