基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
推荐文章
利用SiCl4/Ar/H2气体ICP干法刻蚀GaAs材料
GaAs
干法刻蚀
电感耦合等离子体
SiCl4
光滑表面
利用湿法刻蚀的方式制备黑硅
黑硅材料
湿法刻蚀
表面形貌
光吸收率
等离子体刻蚀中工艺参数对刻蚀速率影响的研究
感应耦合等离子体
干法刻蚀
干法刻蚀影响应变量子阱发光的机理研究
干法刻蚀
应变多量子阱
光致发光谱
损伤
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 湿法和干法刻蚀相结合提高微细线条的刻蚀精度
来源期刊 混合微电子技术 学科 工学
关键词 湿法腐蚀 干法刻蚀 微细线条 腐蚀精度
年,卷(期) 2007,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 25-30
页数 6页 分类号 TN405.98
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 汪涛 13 18 2.0 4.0
2 方洁 3 0 0.0 0.0
3 赵兹君 3 0 0.0 0.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2007(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
湿法腐蚀
干法刻蚀
微细线条
腐蚀精度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
混合微电子技术
季刊
安徽省合肥市6068信箱(合肥市绩溪路260号)
出版文献量(篇)
1458
总下载数(次)
46
总被引数(次)
0
论文1v1指导