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摘要:
以富Pb配料,采用特殊工艺生长出尺寸为Φ10mm×20mm的PbI2晶体.XRD分析结果表明该晶体为2H晶型,P3ml空间群;IR透过率测试结果表明1mm厚的PbI2晶片在400~1000cm-1范围的平均透过率为40%;UV吸收测试结果表明PbI2晶片吸收边为547.6nm,对应能隙为2.27eV.采用上述晶体制备的PbI2探测器在室温下对241Am 59.5keV γ射线敏感,能谱半高宽(FWHM)为26.7keV.
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内容分析
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文献信息
篇名 富铅配料的PbI2晶体生长与性能表征
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 PbI2晶体 生长工艺 XRD分析 IR透过率 禁带宽度 能谱特性
年,卷(期) 2007,(6) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 898-901
页数 4页 分类号 O78
字数 1071字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.06.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱世富 四川大学材料科学系 151 840 14.0 20.0
2 金应荣 西华大学材料科学与工程学院 59 141 5.0 7.0
3 赵北君 四川大学材料科学系 132 744 14.0 19.0
4 向安平 成都信息工程学院光电技术系 48 146 7.0 9.0
5 朱兴华 成都信息工程学院光电技术系 32 98 6.0 7.0
6 魏昭荣 成都信息工程学院光电技术系 16 39 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
PbI2晶体
生长工艺
XRD分析
IR透过率
禁带宽度
能谱特性
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
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