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富铅配料的PbI2晶体生长与性能表征
富铅配料的PbI2晶体生长与性能表征
作者:
向安平
朱世富
朱兴华
赵北君
金应荣
魏昭荣
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
PbI2晶体
生长工艺
XRD分析
IR透过率
禁带宽度
能谱特性
摘要:
以富Pb配料,采用特殊工艺生长出尺寸为Φ10mm×20mm的PbI2晶体.XRD分析结果表明该晶体为2H晶型,P3ml空间群;IR透过率测试结果表明1mm厚的PbI2晶片在400~1000cm-1范围的平均透过率为40%;UV吸收测试结果表明PbI2晶片吸收边为547.6nm,对应能隙为2.27eV.采用上述晶体制备的PbI2探测器在室温下对241Am 59.5keV γ射线敏感,能谱半高宽(FWHM)为26.7keV.
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内容分析
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期刊文献
内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
富铅配料的PbI2晶体生长与性能表征
来源期刊
半导体学报
学科
物理学
关键词
PbI2晶体
生长工艺
XRD分析
IR透过率
禁带宽度
能谱特性
年,卷(期)
2007,(6)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
898-901
页数
4页
分类号
O78
字数
1071字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2007.06.016
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
朱世富
四川大学材料科学系
151
840
14.0
20.0
2
金应荣
西华大学材料科学与工程学院
59
141
5.0
7.0
3
赵北君
四川大学材料科学系
132
744
14.0
19.0
4
向安平
成都信息工程学院光电技术系
48
146
7.0
9.0
5
朱兴华
成都信息工程学院光电技术系
32
98
6.0
7.0
6
魏昭荣
成都信息工程学院光电技术系
16
39
3.0
5.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(8)
节点文献
引证文献
(3)
同被引文献
(5)
二级引证文献
(6)
1988(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1989(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1993(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1994(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
1996(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1997(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2007(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2011(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2016(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
2017(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2019(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2020(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
PbI2晶体
生长工艺
XRD分析
IR透过率
禁带宽度
能谱特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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半导体学报(英文版)2007年第9期
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半导体学报(英文版)2007年第7期
半导体学报(英文版)2007年第6期
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