基底对光学薄膜弱吸收测量的影响

• 作者: 李霞 范正修 贺洪波 赵元安
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 表面热透镜技术 薄膜 弱吸收 定标 基底
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 257-261
• 页数: 5页
• 分类号: O432.2
• 字数: 2924字
• 语种: 中文

摘要

对表面热透镜技术测量光学薄膜弱吸收低频调制时不同基底对测量的影响进行了理论分析.用Lambda-900分光光度计测量了K9和石英基底的Ti3O5单层膜的吸收值,将该组样品作为定标片;用表面热透镜装置分别测量了BK7和石英空白基底及HfO2,ZnO两组不同基底不同厚度单层膜样品的吸收.通过分析比较同一工艺条件下镀制的不同基底薄膜样品用与其同种和不同种基底定标片定标测量的结果,表明在低频测量时需要用与测量样品同种基底的定标片定标;不同厚度样品的测量结果表明,在不能严格满足热薄条件时,测量结果需引入修正值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
2	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0
3	赵元安	中国科学院上海光学精密机械研究所	47	315	11.0	15.0