Ni离子注入四面体非晶碳(ta-C)膜微观结构研究

• 作者: 刘安东 吴正龙 廖斌 张旭 覃礼钊
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: Ni离子注入 四面体非晶碳(ta-C)膜 MEWA源 微观结构
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 49-53
• 页数: 5页
• 分类号: TB332
• 字数: 2854字
• 语种: 中文

摘要

高内应力是阻碍高性能超硬四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜长厚和广泛应用的主要因素.为降低ta-C膜内应力,本文采用金属蒸汽真空弧(metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入技术,注入Ni离子到用磁过滤阴极真空弧(filtered cathodic vacuum arc,FCVA)沉积的ta-C膜中,制备出掺Ni膜(ta-C:Ni膜).用XPS、XRD、Raman谱和SEM表征膜的微观结构.结果显示,膜sp3含量减小,发生了石墨化,石墨颗粒细化;Ni在膜中以单质Ni的形式存在,并且有Ni纳米晶体析出;膜表面均匀分布约10 nm颗粒.对膜在结构上的变化作了讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴正龙	北京师范大学分析测试中心	41	276	7.0	15.0
2	刘安东	北京师范大学低能核物理研究所	11	28	4.0	5.0
3	张旭	北京师范大学低能核物理研究所	37	208	8.0	13.0
4	覃礼钊	北京师范大学低能核物理研究所	9	59	4.0	7.0
8	廖斌	北京师范大学低能核物理研究所	27	69	4.0	7.0