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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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1. 扩散泵的世纪回顾与发展刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 本文叙述了盖得的发明专利,从初期的汞扩散泵到分馏油扩散泵的演变过程.讨论了泵体结构、喷咀型式、泵油性能和几个关键技术问题.现代油扩散泵的何氏系数达0.65以上,返油率达10-5 mg/cm2...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 重离子深层治癌束运线真空系统与兰州重离子加速器冷却储存环(HIRFL-CSR)相连接,要求极高、超高真空度.本文介绍了深层治癌线真空系统的布局;根据极高和超高真空段不同的气载和有效抽速进行了...
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3. 多功能电真空实验装置设计刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 设计了一套多功能电真空实验装置.该装置结构简单,操作方便,实验过程和结果易于观察,用较少的投资就能完成十个以上的真空实验.这些实验不仅涵盖了与真空技术有关的基础实验,而且还包涵了真空应用方面...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 介绍了真空热处理技术的优点,总结了双室真空气淬炉中附件"闸阀"的制造经验,阐述了闸阀的密封工作原理、作用、传动以及关键部件(阀体、连杆机构、阀板)的加工制造工艺,同时对连杆机构做了详细的受力...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 采用反应直流磁控溅射法制备了掺钨氧化铟(In2O3:W,IWO)透明导电氧化物薄膜.薄膜中掺杂的钨离子与被替代的铟离子之间存在高价态差.与相同电阻率的ITO(In2O3:Sn)相比,IWO薄...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 采用中频反应磁控溅射方法和线性阳极层离子源实现了TiO2薄膜在线制备和在线离子束后处理.通过对薄膜光学性质的研究,发现氧离子束后处理对提高薄膜折射率,降低薄膜吸收率具有明显效果.为工业生产中...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 介绍了弧光放电型离子镀A1000设备,研究了沉积MCrAlY高温涂层工艺,沉积参数对涂层质量、涂层成分及涂层性能的影响.研究结果表明,采用该工艺制备MCrAlY多元包覆型涂层,工艺参数易于控...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 分别用电子束蒸发和电泳的方法在不同的衬底上制备出了LaB6薄膜,用扫描电镜(SEM)对样品表面形貌进行了分析,同时利用x射线衍射(XBD)分析了成膜参数衬底温度以及退火处理对LaB6薄膜结晶...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 低温多晶硅薄膜是制备高性能薄膜晶体管的首选材料,由其制成的薄膜晶体管由于在平板显示器件驱动中所展现的优越性能而受到广泛关注.本文系统介绍了低温多晶硅薄膜的三种制备方法一金属诱导横向晶化法、准...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 本文采用中频孪生非平衡磁控溅射设备制备非晶ZnO薄膜,再以不同剂量的铝离子注入法制备氧化锌铝薄膜.并采用X射线、扫描电镜、四极电阻仪、霍尔效应等方法测量和分析了原始沉积的和铝金属离子注入掺杂...
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11. 热丝CVD制备微晶硅薄膜的研究刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜,利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段,系统地研究沉积过程中沉积气压对微晶硅薄膜晶粒尺寸、晶态比和光学带隙的影响,运用...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 类金刚石(DLC)膜是一种含有大量sp3的亚稳态非晶碳薄膜.本文简要地介绍了DLC膜的形成原理、制备方法、发展现状,及其在机械、电子、光学、声学、生物医学等领域的应用与存在的问题.
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 采用独立的Ti靶和Al靶,用射频反应磁控溅射方法,逐步控制氧流量在高速钢(W18Cr4V)基体上沉积了一系列具有不同氧含量的TiAlNO薄膜.研究了氧流量对薄膜组织结构、硬度和摩擦性能的影响...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 利用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了TiNxOy薄膜样品,研究了溅射过程中电压与N2流量之间的迟滞效应,通过X射线衍射(XRD)、UV-Vis分光光度计、四探针电阻仪等测试手段表征了样品的...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 采用射频磁控反应溅射法,Ar气为溅射气体,N2气为反应气体,用高纯石墨靶在Si(100)片上制备了掺氮类金刚石薄膜,采用X射线光电子能谱(XPS)、拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(S...
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16. 信息刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 室温条件下,在玻璃衬底上,采用直流磁控溅射法制备了ITO膜.研究了溅射压强,氧流量和溅射功率等工艺参数对薄膜光电性能的影响.结果表明:当Ar流量为44.2 sccm和溅射时间20 min等参...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 本文介绍了高真空卷绕式镀膜机真空系统、卷绕系统、蒸镀系统等各部分的构成、控制要求及工艺流程,同时介绍了欧姆龙CJ系列可编程序控制器(PLC)的特点,并对由该系列PLC组成的镀膜机自动控制系统...
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刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要： 根据某变压器企业新改进的变压法真空干燥工艺进行了监控系统设计,使用组态软件技术使复杂的自动化工业现场软件开发变得更加简单,并且对今后系统的改进与扩展也留有接口.上位机PC、下位机PLC和现场...
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20. 第十六讲真空系统的操作与维护刊名： 真空发表期刊： 2008年1期页码:摘要：
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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