掺氮类金刚石薄膜的制备及其结构表征

• 作者: 宋泽润 巫邵波 李合琴 王淑占 赵之明
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控反应溅射 掺氮类金刚石薄膜 拉曼光谱 X射线光电子能谱 扫描电子显微镜
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 64-67
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 3096字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控反应溅射法,Ar气为溅射气体,N2气为反应气体,用高纯石墨靶在Si(100)片上制备了掺氮类金刚石薄膜,采用X射线光电子能谱(XPS)、拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM),表征了掺氮类金刚石薄膜的微观结构、表面及截面形貌.Raman光谱结果表明,制备的掺氮类金刚石薄膜中含有特征峰D峰和G峰,分别位于1339.2 cm-1、1554.6 cm-1均向低波数段频移,具有典型的类金刚石结构特征;XPS光谱的C1s和N1s的芯能级证实了薄膜中的碳氮进行了化合,形成了C-N、C=N、C≡N,说明薄膜中形成了非晶碳氮结构;同时SEM结果表明实验所制备的薄膜表面均匀、致密、光滑,从截面照片观察,薄膜与衬底结合紧密,薄膜的厚度大约为150 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李合琴	合肥工业大学材料科学与工程学院	71	273	8.0	12.0
2	宋泽润		11	18	3.0	4.0
3	赵之明	合肥工业大学材料科学与工程学院	8	37	3.0	6.0
4	王淑占	合肥工业大学材料科学与工程学院	4	25	3.0	4.0
5	巫邵波	合肥工业大学材料科学与工程学院	4	25	3.0	4.0