全息光栅掩模制备中的光刻胶薄膜特性控制研究

• 作者: 张大伟 陈南曙 黄元申
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 应力 均匀性 Stoney公式
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 光全息与信息处理
• 页码范围: 55-56
• 页数: 2页
• 分类号: O48
• 字数: 2176字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2008.06.024

摘要

本文对全息光栅掩模制备中光刻胶薄膜的应力与厚度均匀性问题进行了研究.应用干涉法及Stoney公式计算的分析结果,对SiO2基底上光刻胶薄膜的应力进行了研究.对膜厚的均匀性采用干涉显微镜在同一样品,不同直径上多点测量的方法,初步得出光刻胶薄膜膜厚均匀性的分布规律.分组变换加速度,转速,匀胶时间等参数,并对结果进行比较,发现在匀胶转速相同的前提下,光刻胶薄膜应力值随加速度的降低面减小,光刻胶薄膜的均匀性随加速度的增加而变好.在3000rpm至4000rpm的低转速时,光刻胶薄膜样品的膜厚均匀性好.出此,在全息光栅匀胶工艺中,要选择适当的转速的加速度,以得到应力较小和均匀性较好的光刻胶薄膜.与此同时,薄膜膜厚均匀性呈现出中间薄,边缘较厚的规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	上海理工大学光学与电子信息学院	117	391	11.0	15.0
2	黄元申	上海理工大学光学与电子信息学院	56	348	11.0	16.0
3	陈南曙	上海理工大学光学与电子信息学院	4	15	2.0	3.0