制备工艺对P型ZnO薄膜微观结构和电学特性的影响

• 作者: 丁晓贵 丁瑞钦 朱慧群 杨柳 谭军 陈毅湛 黄鑫钿 黎扬钢 齐德备
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 工艺条件 微观结构 电学特性
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 页码范围: 1237-1241,1272
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 2776字
• 语种: 中文

摘要

本文报道溅射工艺、退火工艺和冷却方式对磷扩散法制备的P型ZnO薄膜的微观结构和电学特性的影响的实验研究.研究结果表明,ZnO薄膜的表面形貌、结晶度、内应力以及电学特性均与制备工艺条件有密切的关系.文章对这些关系的机理做了探讨和分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱慧群	五邑大学薄膜与纳米材料研究所	29	82	4.0	6.0
2	丁瑞钦	五邑大学薄膜与纳米材料研究所	29	115	6.0	9.0
3	陈毅湛	五邑大学薄膜与纳米材料研究所	11	13	2.0	2.0
4	丁晓贵	五邑大学数理系	2	4	1.0	2.0
5	齐德备	五邑大学机电系	2	4	1.0	2.0
6	黎扬钢	五邑大学薄膜与纳米材料研究所	1	1	1.0	1.0
7	杨柳	五邑大学信息学院	1	1	1.0	1.0
8	黄鑫钿	五邑大学信息学院	1	1	1.0	1.0
9	谭军	五邑大学信息学院	1	1	1.0	1.0