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电子物理学:Zn离子注入和退火对ZnO薄膜光学性能的影响
电子物理学:Zn离子注入和退火对ZnO薄膜光学性能的影响
作者:
余华军
向霞
居勇峰
张晓艳
祖小涛
薛书文
袁兆林
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
ZnO薄膜
离子注入
退火温度
吸收
光致发光
摘要:
利用溶胶凝胶方法在石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,将能量56keV、剂量1×10^17cm^-2的Zn离子注入到薄膜中,离子注入后,薄膜在500-900℃的氩气中退火,利用X射线射谱、光致发光谱和光吸收谱研究了离子注入和退火对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.结果显示:衍射峰在约700℃退火后得到恢复;当退火温度小于600℃时,吸收边随着退火温度的提高发生蓝移,
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文献信息
篇名
电子物理学:Zn离子注入和退火对ZnO薄膜光学性能的影响
来源期刊
中国学术期刊文摘
学科
工学
关键词
ZnO薄膜
离子注入
退火温度
吸收
光致发光
年,卷(期)
2008,(7)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
39
页数
1页
分类号
TN304.21|TN304.18
字数
语种
中文
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离子注入
退火温度
吸收
光致发光
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中国学术期刊文摘
主办单位:
科技导报社
出版周期:
半月刊
ISSN:
1005-8923
CN:
11-3501/N
开本:
出版地:
北京市海淀区学院南路86号
邮发代号:
创刊时间:
语种:
chi
出版文献量(篇)
9568
总下载数(次)
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