电子物理学:Zn离子注入和退火对ZnO薄膜光学性能的影响

• 作者: 余华军 向霞 居勇峰 张晓艳 祖小涛 薛书文 袁兆林
• 来源期刊: 中国学术期刊文摘
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 离子注入 退火温度 吸收 光致发光
• 年，卷（期）: 2008,（7）
• 页码范围: 39
• 页数: 1页
• 分类号: TN304.21|TN304.18
• 语种: 中文

摘要

利用溶胶凝胶方法在石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,将能量56keV、剂量1×10^17cm^-2的Zn离子注入到薄膜中,离子注入后,薄膜在500-900℃的氩气中退火,利用X射线射谱、光致发光谱和光吸收谱研究了离子注入和退火对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.结果显示:衍射峰在约700℃退火后得到恢复;当退火温度小于600℃时,吸收边随着退火温度的提高发生蓝移,