薄膜电阻器用磁控溅射高阻靶材

• 作者: 张之圣 王秀宇 白天
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 金属膜电阻器 溅射靶材 熔炼技术
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 压电及其他功能器件
• 页码范围: 661-663
• 页数: 3页
• 分类号: TN104
• 字数: 1710字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2009.05.016

摘要

在用磁控溅射技术制备金属膜电阻器的生产过程中,靶材非常关键,它制约着金属膜电阻器的精度、可靠性、稳定性和电阻温度系数等性能.根据理论分析,提出了高稳定性的高阻靶材的最佳成分比例.自行设计了熔炼模壳及冷却方法,有效解决了因Si元素的脆性而引发的靶材开裂问题.溅射的金属膜电阻器,其高温储存试验、寿命试验、耐湿试验均达到了国家有关标准.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王秀宇	天津大学电子信息工程学院	16	288	9.0	16.0
2	张之圣	天津大学电子信息工程学院	57	580	15.0	21.0
3	白天	天津大学电子信息工程学院	11	166	5.0	11.0