Nikon光刻机对准系统概述及模型分析

• 作者: 何峰 吴志明 李正贤 王军 蒋亚东 袁凯
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 对准系统 步进光刻机 对准方式 对准模型
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 本期专题(光刻与刻蚀)
• 页码范围: 8-12,18
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4415字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2009.04.002

摘要

对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一.阐述Nikon步进投影光刻机(Stepper)的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式:LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点.并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明		78	544	13.0	17.0
2	蒋亚东		318	2024	18.0	25.0
3	王军		115	936	14.0	26.0
4	李正贤		2	13	2.0	2.0
5	袁凯		22	200	9.0	13.0
6	何峰		3	29	2.0	3.0