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Investigation of nc-Si：H Films after Ion Irradiation
Investigation of nc-Si：H Films after Ion Irradiation
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摘要：
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内容分析
关键词云
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文献信息
| 篇名 | Investigation of nc-Si：H Films after Ion Irradiation | ||
| 来源期刊 | 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 氢化纳米硅 离子辐照 薄膜 太阳能电池 混合材料 纳米硅晶粒 非晶组织 生命时 | ||
| 年，卷（期） | 2009,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 90-91 | |
| 页数 | 2页 | 分类号 | TM914.42 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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氢化纳米硅
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生命时
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期刊影响力
近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版
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年刊
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兰州31号信箱中国科学院近代物理研究所出版发行社社址:北京市海淀区阜成路43号(100037)
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