工作参数对平面直流磁控溅射放电特性的影响

• 作者: Finley Jim JIAO Yu 励庆孚 苏静静 邱清泉
• 来源期刊: 核聚变与等离子体物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 放电 等离子体 粒子模拟 OOPIC
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 等离子体应用
• 页码范围: 182-188
• 页数: 7页
• 分类号: O484|O53|O461
• 字数: 3273字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6086.2009.02.018

摘要

基于OOPIC软件,对平面直流磁控溅射放电等离子体进行了二维自洽粒子模拟,重点研究了磁场、阴极电势和气压等工作参数对磁控放电特性的影响.模拟发现,在一定的工作参数范围内,随着磁场的增强,鞘层厚度变窄,鞘层电势降减小,阴极离子密度增大,但是分布变窄;随着阴极电势的增加,鞘层厚度稍微变窄,鞘层电势降增大,阴极离子密度增大,分布变宽;随着气压的升高,鞘层厚度基本不变,鞘层电势降会增大,阴极离子密度先增大后减小,分布略微变宽.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	励庆孚	西安交通大学电气工程学院	77	2139	26.0	45.0
2	邱清泉	西安交通大学电气工程学院	9	81	6.0	9.0
3	苏静静	西安交通大学电气工程学院	4	43	4.0	4.0