基片温度对脉冲激光沉积ZnO薄膜性质的影响

• 作者: 刘红梅 王丽 王荣平 苏雪琼 陈江博
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 材料 ZnO薄膜 脉冲激光沉积 表面形貌 光致发光 透射光谱
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1539-1544
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 2906字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20093606.1539

摘要

本文基于脉冲激光沉积(PLD)方法,利用光谱物理GCR-170型脉冲激光器Nd:YAG的三次谐波,实验上完成了在Al2O3(0001)基片上生长了ZnO薄膜.利用原子力显微镜(AFM)、光致发光(PL)谱和光学透射谱对不同基片温度下沉积的ZnO薄膜的表面形貌和光学特性进行研究.结果表明,沉积时的基片温度对ZnO薄膜的结构和特性有显著影响.在基片温度为500℃时沉积的ZnO薄膜结构致密均匀,并表现出很强的紫外发射.通过紫外一可见透射光谱的测量,讨论了沉积时的基片温度对ZnO薄膜光学透射率的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽	北京工业大学应用数理学院	133	1374	20.0	33.0
2	刘红梅	北京工业大学应用数理学院	15	66	5.0	7.0
3	陈江博	北京工业大学应用数理学院	8	108	5.0	8.0
4	苏雪琼	北京工业大学应用数理学院	7	67	3.0	7.0