磁控溅射MoSiCN硬质薄膜的制备与性能

• 作者: 倪浩明 吕鹏辉 崔平 方前锋 陈建敏
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米复合 纳米晶MoN/非晶SiCNX MoSiCN 薄膜 抗氧化性 摩擦因数
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 95-101
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3937字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2010.03.020

摘要

MoSiCN纳米复合薄膜于100 V负偏压下使用反应磁控溅射法被沉积在硅和不锈钢基体上,其结构和力学性能使用XRD、XPS、TGA、纳米压痕仪、摩擦试验机等测试与表征.测试结果表明薄膜硬度为30 GPa;薄膜由MoCN纳米晶粒镶嵌在非晶SiCN基体中,Si含量与纳米复合薄膜的结构密切相关;摩擦因数比MoCN薄膜有很大降低,分析认为纳米C颗粒进入MoSiN晶界中所起的润滑作用使然;薄膜抗氧化温度为1 100 ℃左右,盐雾试验显示薄膜抗腐蚀时间超过150 h,经思考认为是薄膜组成中金属Mo的含量减少,大量SiCN陶瓷组分提高了薄膜的抗氧化和抗腐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈建敏	中国科学院兰州化学物理研究所	153	2711	28.0	45.0
2	崔平	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	28	347	10.0	18.0
3	方前锋	中国科学院固体物理研究所	51	197	8.0	12.0
4	倪浩明	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	1	0	0.0	0.0