射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性

• 作者: 孙建荣 李发伸 沈宝龙 王丽 王兰喜 王建波 王海波 魏福林
• 来源期刊: 宁波大学学报（理工版）
• 学科: 工学
• 关键词: NiZn铁氧体 薄膜 溅射 穆斯堡尔谱
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究生2009年度学术节获奖论文选登
• 页码范围: 115-117
• 页数: 3页
• 分类号: TB321
• 字数: 1918字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5132.2010.01.024

摘要

使用交替靶射频溅射的方法在不同基底上制备得到了成分为NiZn1-xFe2O4的铁氧体薄膜,研究了NiZn铁氧体薄膜的生长条件,探讨了不同工艺条件对薄膜性能的影响,目的是提高薄膜饱和磁化强度Ms,降低薄膜矫顽力Hc,改善薄膜的软磁性能,以满足其在高频薄膜器件应用方面的需要.实验表明:沉积态薄膜即为尖晶石结构.并且通过不同实验条件对NiZn铁氧体薄膜性能影响的研究,得到了最佳的NiZn铁氧体薄膜的制备条件.