镀膜装置蒸发源发射形态与膜厚分布

• 作者: 张建光 徐树深 梅丽文
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 真空镀膜 基片 蒸发源 距离
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 23-25
• 分类号: TB43
• 字数: 2684字
• 语种: 中文

摘要

蒸发源是真空镀膜装置中一个非常重要的部件.在多个蒸发源共存的装置中,如何在设计中正确选择蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间的距离就显得尤为重要,它直接关系到基板涂层均匀性.本篇文章根据蒸发源与基片之间的物理联系入手,分析基片--蒸发源距离对基片涂层均匀性的影响,进而对蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间距离的确定,提出了自己的一些观点和看法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐树深	兰州理工大学温州泵阀工程研究院	3	3	1.0	1.0
2	梅丽文	兰州理工大学温州泵阀工程研究院	8	30	3.0	5.0
3	张建光		1	3	1.0	1.0