溅射压强对低阻高透过率掺钛氧化锌透明导电薄膜的影响

• 作者: 刘汉法 张化福 袁玉珍 袁长坤
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO:Ti薄膜 透明导电薄膜 溅射压强 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 185-189
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3120字
• 语种: 中文

摘要

利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的掺钛氧化锌透明导电薄膜(ZnO: Ti).研究了溅射压强对ZnO: Ti薄膜结构、形貌和光电性能的影响.研究结果表明,溅射压强对ZnO: Ti 薄膜的结构和电阻率有显著影响.X射线衍射(XRD)表明,ZnO: Ti 薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.在溅射压强为5.0 Pa时,实验获得的ZnO: Ti薄膜电阻率最小值为1.084 ×10~(-4) Ω· cm.实验制备的ZnO: Ti 薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过91%.ZnO: Ti薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁玉珍	山东理工大学理学院	26	159	7.0	11.0
2	刘汉法	山东理工大学理学院	57	316	11.0	13.0
3	张化福	山东理工大学理学院	52	292	11.0	13.0
4	袁长坤	山东理工大学理学院	23	126	6.0	10.0